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杜邦将在韩建EUV光刻胶厂,韩国缓解对日依赖

日期:2020年01月13日   信息来源:


杜邦在韩国出资2800万美元建造EUV光刻胶厂,并估计在2021年前完成投产。


据《路透社》报道,1月9日,美国杜邦宣告在韩国出资2800万美元建造EUV光刻胶厂,并估计在2021年前完成投产,进行光刻胶以及相关资料的出产。


关于这样的音讯,韩国媒体报道指出,三星等韩国大型科技厂商将不必再过度依靠日本供给相关产品,到达产品来历多元化的意图。 


现在杜邦在韩国已有2座工厂。而据韩国交易部官员表明,杜邦公司除了将持续出资韩国的两座现有工厂,还将新设一座新工厂,地址将是间隔首尔南边92公里已有杜邦厂房的忠清南道天安市,建造时刻估计为2020~2021年。韩国政府和地方政府还将承当土地的费用,还给予革除税金等优惠。


此前,由于日韩间劳工补偿等前史遗留问题,2019年7月1日,日本拉开了与韩国交易战的前奏。


2019年7月4日,日本宣告将对韩国出口的氟聚酰亚胺、光刻胶和高纯度氟化氢三种产品进行出口约束。这三种产品是电子职业追重要的原资料。


其间光刻胶是各大芯片、集成电路出产的要害资料,日企在全球商场占比为80%。


这一行为,直接约束了三星未来在7nm以下逻辑器材CPU的出产。


关于日本的行为,三星敏捷做出反响,添加了比利时产资料的进口。从比利时进口的光刻胶在本年第三季度到达了459万美元,是上一季度的20倍。其间大多数是EUV的光刻胶。


因而,就现在来看,三星遭到的影响并不是很大,其现已开端大规模出产依据7纳米EUV工艺的移动运用处理器Exynos 9825,但产值只占其总产值的一小部分。


可是真实的问题将在几年后呈现,那时EUV制程工艺将成为干流。


依据IC Insights的陈述,到2023年,10nm以下的半导体产值将从本年的105万张/月添加到627万张/月。同期,10纳米以下半导体工艺的份额将从5%增长到25%。


业内人士猜测,在未来几年内,EUV技能将占到大部分7纳米以下的工艺。


EUV技能的不断推动将导致EUV中光刻胶运用的添加。据韩国芯片制造商猜测,EUV光刻胶的本土化无法在几年内完成,因而他们计划脱离日本,寻求多样化供给商。可是,由于他们与日本供给商对EUV光刻胶进行了优化,假如脱离日本,收益率或直接下降。


不过,除了三星等韩国公司,日本的光刻胶企业也遭到了影响,因而,上一年12月,传出了日本JSR欲在韩国建光刻胶厂来躲避交易方针的的音讯,且JSR已与三星进行计划共享,可是终究是否建厂还要等官方承认。


因而,杜邦此次的出资,关于韩国来说,可以说是处理了当务之急。


只不过惋惜的是,现在杜邦的EUV光刻胶技能没有到达可以将其完好运用到相关制程上的境地,可是在韩国这样老练的科技制造业环境中,杜邦的光刻胶出产技能想必可以快速地开展。


别的,由于杜邦在韩国的新出资,韩国国内的高科技资料供给也有望发生更大的改变,由于跟着杜邦成为日本产品的代替者,韩国现有的企业好像正在考虑以杜邦的代替计划来持续韩国的商场需求,这可能将成为韩国政府未来持续与日本商洽的筹码。


来历: 膜链


杜邦在韩国出资2800万美元建造EUV光刻胶厂,并估计在2021年前完成投产。


据《路透社》报道,1月9日,美国杜邦宣告在韩国出资2800万美元建造EUV光刻胶厂,并估计在2021年前完成投产,进行光刻胶以及相关资料的出产。


关于这样的音讯,韩国媒体报道指出,三星等韩国大型科技厂商将不必再过度依靠日本供给相关产品,到达产品来历多元化的意图。 


现在杜邦在韩国已有2座工厂。而据韩国交易部官员表明,杜邦公司除了将持续出资韩国的两座现有工厂,还将新设一座新工厂,地址将是间隔首尔南边92公里已有杜邦厂房的忠清南道天安市,建造时刻估计为2020~2021年。韩国政府和地方政府还将承当土地的费用,还给予革除税金等优惠。


此前,由于日韩间劳工补偿等前史遗留问题,2019年7月1日,日本拉开了与韩国交易战的前奏。


2019年7月4日,日本宣告将对韩国出口的氟聚酰亚胺、光刻胶和高纯度氟化氢三种产品进行出口约束。这三种产品是电子职业追重要的原资料。


其间光刻胶是各大芯片、集成电路出产的要害资料,日企在全球商场占比为80%。


这一行为,直接约束了三星未来在7nm以下逻辑器材CPU的出产。


关于日本的行为,三星敏捷做出反响,添加了比利时产资料的进口。从比利时进口的光刻胶在本年第三季度到达了459万美元,是上一季度的20倍。其间大多数是EUV的光刻胶。


因而,就现在来看,三星遭到的影响并不是很大,其现已开端大规模出产依据7纳米EUV工艺的移动运用处理器Exynos 9825,但产值只占其总产值的一小部分。


可是真实的问题将在几年后呈现,那时EUV制程工艺将成为干流。


依据IC Insights的陈述,到2023年,10nm以下的半导体产值将从本年的105万张/月添加到627万张/月。同期,10纳米以下半导体工艺的份额将从5%增长到25%。


业内人士猜测,在未来几年内,EUV技能将占到大部分7纳米以下的工艺。


EUV技能的不断推动将导致EUV中光刻胶运用的添加。据韩国芯片制造商猜测,EUV光刻胶的本土化无法在几年内完成,因而他们计划脱离日本,寻求多样化供给商。可是,由于他们与日本供给商对EUV光刻胶进行了优化,假如脱离日本,收益率或直接下降。


不过,除了三星等韩国公司,日本的光刻胶企业也遭到了影响,因而,上一年12月,传出了日本JSR欲在韩国建光刻胶厂来躲避交易方针的的音讯,且JSR已与三星进行计划共享,可是终究是否建厂还要等官方承认。


因而,杜邦此次的出资,关于韩国来说,可以说是处理了当务之急。


只不过惋惜的是,现在杜邦的EUV光刻胶技能没有到达可以将其完好运用到相关制程上的境地,可是在韩国这样老练的科技制造业环境中,杜邦的光刻胶出产技能想必可以快速地开展。


别的,由于杜邦在韩国的新出资,韩国国内的高科技资料供给也有望发生更大的改变,由于跟着杜邦成为日本产品的代替者,韩国现有的企业好像正在考虑以杜邦的代替计划来持续韩国的商场需求,这可能将成为韩国政府未来持续与日本商洽的筹码。


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